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解説
半導体製品の洗浄や半導体製造に使用する薬品の希釈用などには、他と比べものにならないほどの高純度の超純水が必要です。そのため超純水製造には、水処理のすべての技術が投入されているといってもいいでしょう。そのシステムは大きく、前処理システム、一次純水製造システム(以下、一次純水システム)、ポリッシングシステム(サブシステム)の三つに分けられます。使用される処理装置は、原水の水質や要求される水質によって異なります。このうち前処理システムでは、主として工業用水や井戸水に含まれる微粒子が取り除かれます。そして一次純水システムでは、イオン類、TOC(Total Organic Carbon:水中に溶解している全有機炭素)、溶存ガス(酸素、CO2)、SiO2のほぼ大部分が除去され、水質としても抵抗率10MΩ・cm以上、良好な場合では17.5MΩ・cm以上になります。