KCRセンターは栗田工業の「水処理ご相談窓口」です

超純水製造装置のしくみ

企業の水処理問題をトータルで解決!

「水」のプロが応える
水処理相談サイト

栗田工業株式会社

相談ダイヤル

メニュー

水処理教室

水処理教室

超純水製造から排水・汚泥処理まで水処理技術をレクチャーします

No.15純水・超純水

超純水製造装置のしくみ
KCRセンター佐藤禎一
【解説者】

栗田工業株式会社KCRセンター

佐藤禎一

栗田工業/KCRセンターの佐藤です。№15の水処理教室では、「超純水製造装置のしくみ」についてお話いたします。半導体製品の洗浄や、半導体製造に使用する薬品の希釈用などには、他と比較的できないほどの高純度の超純水が必要です。今回は、水処理のすべての技術を投入して開発された超純水製造装置のしくみについて解説いたします。

KCRセンター佐藤禎一
【解説者】
  • 栗田工業株式会社
  • KCRセンター
  • 佐藤禎一

解説

半導体製品の洗浄や半導体製造に使用する薬品の希釈用などには、他と比べものにならないほどの高純度の超純水が必要です。そのため超純水製造には、水処理のすべての技術が投入されているといってもいいでしょう。そのシステムは大きく、前処理システム、一次純水製造システム(以下、一次純水システム)、ポリッシングシステム(サブシステム)の三つに分けられます。使用される処理装置は、原水の水質や要求される水質によって異なります。このうち前処理システムでは、主として工業用水や井戸水に含まれる微粒子が取り除かれます。そして一次純水システムでは、イオン類、TOC(Total Organic Carbon:水中に溶解している全有機炭素)、溶存ガス(酸素、CO2)、SiO2のほぼ大部分が除去され、水質としても抵抗率10MΩ・cm以上、良好な場合では17.5MΩ・cm以上になります。

最終安全装置としてのサブシステム

またサブシステムでは、一次純水システムで除去しきれなかった微量のイオン類、TOCを取り除くとともに、一次純水システム以降にシステム構成部材から溶出したイオン類、TOCを取り除きます。このサブシステムは、システム全体の最終安全装置の役目を果たします。一次純水システムがしっかりしていると超純水製造システム全体が非常に安定したものとなります。それぞれの処理で使われる装置や除去対象は、以下に一覧で示してあります。すべての物質を処理するような万能な技術や装置はありません。ですから、半導体製造に求められる高純度の超純水は、最新の技術・装置を組み合わせてつくられているのです。

除去対象項目 前処理
システム
一次純水システム サブシステム
凝集+ろ過 RO イオン
交換
脱気 UV殺菌 UV酸化 デミナー UF
イオン × × × × ×
TOC × ×
微粒子 × × × ×
溶存酸素 × × × × × × ×
シリカ × × × ×
生菌 × × × × ×
炭酸ガス × × × ×
お問い合わせ・ご相談は下記までお気軽にご相談ください。
ご相談受付ダイヤル 相談無料0120-40-7474

受付時間 9:30〜17:00(土・日・祝日を除く)

このページを見ている方へのおすすめコンテンツ

バックナンバー

ユーザー登録のメリットユーザー登録のメリット

他の製品を見る

規格型水処理装置

水処理薬品

設備診断をしてみませんか設備診断をしてみませんか

御社のお悩みを解決する最善の方法をご提案いたします。お気軽にお申し込みください

気になる水処理設備を3つの視点で 診断します

  • 環境負荷軽減 環境負荷
    軽減

  • 管理負担軽減 管理負担
    軽減

  • コスト削減 コスト
    削減

メーカーに関わらず診断いたします

はじめてKCRセンターに来られた方へ「はじめてKCRセンターに来られた方へ」

企業の水処理のご相談を受け付けているクリタのサイトです。お悩み解決をサポートします

栗田工業株式会社KCRセンターは栗田工業の
「水処理ご相談窓口」です

ご相談受付ダイヤル

相談無料0120
40-7474

受付時間 9:30~17:00
(土・日・祝日を除く)

WEBで相談する

カタログ請求