不純物による半導体ウェハーの製品不良
用水・純水 純水・超純水半導体製造において、水の不純物除去方法と、不純物がある場合の製造の不具合について解説した動画です。不純物が製品不良を引き起こすメカニズムについても解説します。
アジェンダ
0:00 水の不純物除去方法と、除去しなかった場合の製造の不具合
1:02 水の純度と製品表面に発生するウォータマーク
2:16 半導体の洗浄時に残ったイオンによる製品不良
半導体製造において、水の不純物除去方法と、不純物がある場合の製造の不具合について解説した動画です。不純物が製品不良を引き起こすメカニズムについても解説します。
0:00 水の不純物除去方法と、除去しなかった場合の製造の不具合
1:02 水の純度と製品表面に発生するウォータマーク
2:16 半導体の洗浄時に残ったイオンによる製品不良